SEN日森

日本SEN日森真空清洗设备PL1-1107A技术参数真空度：可达到0~0.001Torr，能有效营造真空环境，为清洗过程提供稳定的基础条件，确保清洗效果。

紫外光波长：可同时发射185nm和254nm的紫外光，利用这两种波长紫外光的特性进行光分解和光敏氧化反应，实现高效清洗和表面处理。

照射尺寸：照射尺寸为300×400mm，可满足一定尺寸的工件清洗需求，能够用作生产机器，适用于批量生产中的表面处理。

日本SEN日森真空清洗设备工作原理：与其他SEN日森的UV清洗设备类似，该设备利用185nm波长紫外光将空气中的氧气分解成臭氧，254nm波长的紫外光将臭氧分解成氧气和活性氧。活性氧具有强烈的氧化作用，与工件表面的有机物污染物发生氧化反应，使其分解成挥发性气体逸出，从而达到清洗和表面处理的目的。

应用场景光学领域：可用于透镜和棱镜的清洁和表面改性，去除表面的油污、灰尘、指纹等污染物，提高光学元件的透光率和成像质量，改善表面的光学性能。

电子行业：对各种基板材料进行预处理，如半导体硅片、印制电路板等，去除表面的有机物杂质，提高基板表面的清洁度和润湿性，有利于后续的光刻、镀膜、焊接等工艺的进行，提高产品的良品率和可靠性。

材料处理：能对金属和玻璃等材料进行表面处理，改善表面润湿性，提高材料对粘合剂、油漆和涂料的附着力，增强材料的表面性能和使用寿命。

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