等离子清洗机会使用各种气体,表面清洗和活化通常会使用氧、氢、氮和压缩空气,但根据工艺要求也会使用氩气。那么为什么要使用这种气体,以及它在等离子清洗机中的主要作用是什么?
氩气是一种惰性气体,电离后产生的离子体与基体不发生化学反应。在等离子体清洗中,氩主要用于基体表面的物理清洗和表面粗化。因此,氩气等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。
一、表面清洁 在晶圆、玻璃等产品的表面颗粒去除过程中,通常采用等离子体对表面颗粒进行轰击,以实现颗粒的分散和松动,然后再进行离心清洗等工艺。尤其是在半导体封装过程中,完成打线工艺后防止导线氧化,是采用氩等离子体或氩氢等离子对表面进行清洗。
二、表面粗化 等离子清洗机的表面粗糙也称为表面刻蚀,目的是提高材料的表面粗糙度,从而增加材料的粘接、印刷和焊接。活性气体处理过后也可以增加表面张力,但氩离子化产生的颗粒相对较重,在电场作用下氩离子的动能明显高于活性气体,因此其粗化效果更明显,在无机物表面粗化过程中应用最广泛。如玻璃基材表面处理、金属基材表面处理等。
三、活性气体辅助 在等离子清洗机的活化和清洗过程中,混合工艺气体相对来说会取得较好的效果,由于氩的分子量较大,电离后产生的颗粒比较后,当表面清洗和活化通常与活性气体结合时效果较好,最常见的是氩和氧的混合物。